Electron beam energy deposition and resist profile modeling during electron beam lithography process

Počet záznamov: 1

Názov	Electron beam energy deposition and resist profile modeling during electron beam lithography process
Autor	Cvetkov Kristian Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Koleva Elena
	Vutova Katia

Spoluautori	Gerasimov Vladislav Asparuhova Boriana
Zdroj.dok.	International scientific conference High technologies. business. Society : Proceedings, Volume I "High technologies". Vol. II, no. 1 (2018), p. 124-127. - Sofia, Bulgaria : Scientific Technical Union of Mechanical Engineering Industry 4.0
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	BG - Bulharsko
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách
Rok vykazovania	2018

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2018

Počet záznamov: 1