Počet záznamov: 1
Tungsten silicide formation by multipulse excimer laser irradiation
Názov Tungsten silicide formation by multipulse excimer laser irradiation Autor Luby Štefan 1941 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV Spoluautori Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV ORCID Spoluautori Danna E. Luches A. Martino M. Tufano A. Majni G. Zdroj.dok. Applied Surface Science. Vol. 69, no. 1-4 (1993), p. 345-349 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina NL - Holandsko Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy LAWRENCE, J. - PEY, K. L. - LEE, P. S. Pulsed Laser Annealing Technology for Nano-Scale Fabrication of Silicon-Based Devices in Semiconductors. In ADVANCES IN LASER MATERIALS PROCESSING: TECHNOLOGY, RESEARCH AND APPLICATIONS, 2ND EDITION. ISSN 2052-5532, 2018, pp. 299-337. BARBERO, CJ - DENG, C - SIGMON, TW - RUSSELL, SW - ALFORD, TL. The fabrication of nickel and chromium silicide using an XeCl excimer laser. In JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. ISSN 0022-0248, 1996, vol. 165, no. 1-2, pp. 57-60. GEDEVANISHVILI, S - MUNIR, ZA. THE INFLUENCE OF AN ELECTRIC-FIELD ON THE MECHANISM OF COMBUSTION SYNTHESIS OF TUNGSTEN SILICIDES. In JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH. ISSN 0884-2914, 1995, vol. 10, no. 10, pp. 2642-2647. Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 1993 článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore A rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 1993 1992 1.150
Počet záznamov: 1