Nonsymmetrical modified chemical vapor deposition (N-MCVD) process

Počet záznamov: 1

Názov	Nonsymmetrical modified chemical vapor deposition (N-MCVD) process
Autor	Doupovec Juraj 1938 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV
Spoluautori	Yarin A. L.
Zdroj.dok.	Journal of Lightwave Technology. Vol. 9, no. 6 (1991), p. 695-700
Jazyk dok.	eng - angličtina
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Ohlasy	BANG, Boo-Hyoung - KIM, Yong-Il - JEONG, Seokgyu - YOON, Youngbin - YARIN, Alexander L. - YOON, Sam S. Theoretical model for swirling thin film flows inside nozzles with converging-diverging shapes. In APPLIED MATHEMATICAL MODELLING. ISSN 0307-904X, 2019, vol. 76, no., pp. 607-616.
Kategória	ADMA - Vedecké práce v zahraničných impaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	1991
Registrované v	WOS
Registrované v	SCOPUS
DOI	10.1109/50.81970

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	N

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
1991

Počet záznamov: 1