Počet záznamov: 1
Oxygen tolerant copper mediated photo-ATRP under specific polymerization conditions
Názov Oxygen tolerant copper mediated photo-ATRP under specific polymerization conditions Autor Mosnáček Jaroslav 1975- SAVPOLYM ; SAVCEMEA - Ústav polymérov SAV ORCID Spoluautori Kollár Jozef 1977- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Bondarev Dmitrij 1977- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Hološ Ana 1985- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Zain Gamal SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Eckstein Andicsová Anita 1979- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV ORCID Borská Katarína 1983- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV ORCID Moravčíková Daniela 1984- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV ORCID Spoluautori Karim Rubina SAVCEMEA - Centrum pre využitie pokročilých materiálov SAV Zdroj.dok. VESPS 2021 : Virtual European Symposium of Photopolymer Science dedicated to Ewa Andrzejewska : book of abstracts. P. 63. - Gumpoldskirchen, Austria : ChemIT e.U. - Book-of-abstracts.com, 2021 / Krebs Heinz A. ; VESP 2021 Virtual European Symposium of Photopolymer Science dedicated to Ewa Andrzejewska Jazyk dok. eng - angličtina URL vesps2021.net Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AFE - Abstrakty pozvaných príspevkov zo zahraničných konferencií Rok vykazovania 2021 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2021
Počet záznamov: 1