Počet záznamov: 1  

Enhancement of channel electric field in AlGaN/GaN multi-nanochannel high electron mobility transistors

  1. NázovEnhancement of channel electric field in AlGaN/GaN multi-nanochannel high electron mobility transistors
    Autor Matys M.
    Spoluautori Nishiguchi K.

    Adamowicz J.B.

    Kuzmík Ján 1960 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID

    Hashizume T.

    Zdroj.dok. Journal of Applied Physics. Vol. 124 (2018), no. 224502
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rbx)
    OhlasyMAZUMDER, S. - WU, Z.G. - PAN, P.C. - LI, S.H. - WANG, Y.H. DC performance improvement of nanochannel AlGaN/AlN/GaN HEMTs with reduced OFF-state leakage current by post-gate annealing modulation. In SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. ISSN 0268-1242, SEP 2021, vol. 36, no. 9.
    GLINKOWSKI, M. - PASZKIEWICZ, B. - PASZKIEWICZ, R. Influence of High Electric Field on Operation of AlGaN/AlN/GaN High Electron Mobility Transistor. In ACTA PHYSICA POLONICA A. ISSN 0587-4246, AUG 2021, vol. 140, no. 2, p. 192-196.
    SON, D.H. - THINGUJAM, T. - DAI, Q. - KIM, J.G. - CRISTOLOVEANU, S. - LEE, J.H. Fabrication and characterization of GaN-based nanostructure field effect transistors. In SOLID-STATE ELECTRONICS. ISSN 0038-1101, OCT 2021, vol. 184.
    KategóriaADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2018
    Registrované vWOS
    Registrované vSCOPUS
    Registrované vCCC
    DOI 10.1063/1.5056194
    článok

    článok

    rokCCIFIF Q (best)JCR Av Jour IF PercSJRSJR Q (best)CiteScore
    A
    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    201820172.176Q20.739Q2
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.