Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography

Počet záznamov: 1

Názov	Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography
Autor	Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
Spoluautori	Vutova Katia
	Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Ritomský Mário 1993- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID

Zdroj.dok.	AIP Conference Proceedings. Vol. 2778 (2023), art. no. 030001
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	US - Spojené štáty
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Kategória	ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2023
Registrované v	WOS
Registrované v	SCOPUS
DOI	10.1063/5.0136258

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	N

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2023	2022			0.164

Počet záznamov: 1