Počet záznamov: 1
Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists
Názov Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012007 Jazyk dok. eng - angličtina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 Registrované v SCOPUS DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012007 článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore N rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2023 2022 0.183
Počet záznamov: 1