Počet záznamov: 1
Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists
Názov Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012007 Jazyk dok. eng - angličtina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy FETISENKOVA, Ksenia - MELNIKOV, Alexander - KUZMENKO, Vitaly - MIAKONKIKH, Andrey - ROGOZHIN, Alexander - TATARINTSEV, Andrey - GLAZ, Oleg - KISELEVSKY, Vsevolod. Mechanism of Improving Etching Selectivity for E-Beam Resist AR-N 7520 in the Formation of Photonic Silicon Structures. In PROCESSES, 2024, vol. 12, no. 9, pp. Dostupné na: https://doi.org/10.3390/pr12091941. SINGH, Rahul - BERTELSEN, Christian Vinther - DIMAKI, Maria - SVENDSEN, Winnie Edith. Dry etch performance of Novolak-based negative e-beam resist. In MICRO AND NANO ENGINEERING, 2024, vol. 25, no., pp. Dostupné na: https://doi.org/10.1016/j.mne.2024.100284. Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 Registrované v SCOPUS DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012007 
článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore N rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2023 2022 0.183
Počet záznamov: 1