Počet záznamov: 1
Aqueous base developable epoxy resist for high sensitivity electron beam lithography
Názov Aqueous base developable epoxy resist for high sensitivity electron beam lithography Autor Argitis P. Spoluautori Glezos N. Vasilopoulou M. Raptis I. Hatzakis M. Everett J. Meneghini G. Palumbo A. Ardito M. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Zdroj.dok. Microelectronic Engineering. Vol. 53, No. 1-4 (2000), p. 453-456 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina NL - Holandsko Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy PEPIN, A - STUDER, V - DECANINI, D - CHEN, Y. Exploring the high sensitivity of SU-8 resist for high resolution electron beam patterning. In MICROELECTRONIC ENGINEERING. ISSN 0167-9317, 2004, vol. 73-4, no., pp. 233-237. HIRSCHER, S - KAESMAIER, R - DOMKE, WD - WOLTER, A - LOSCHNER, H - CEKAN, E - HORNER, C - ZEININGER, M - OCHSENHIRT, J. Resist process development for sub-100-nm ion projection lithography. In MICROELECTRONIC ENGINEERING. ISSN 0167-9317, 2001, vol. 57-8, no., pp. 517-530. Kategória ADC Rok vykazovania 2000 Registrované v WOS Registrované v SCOPUS Registrované v CCC DOI 10.1016/S0167-9317(00)00354-3 článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore A rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2000 1999 0.810
Počet záznamov: 1