Limits to nanopatterning based on e-beam lithography

Počet záznamov: 1

Názov	Limits to nanopatterning based on e-beam lithography
Autor	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
Spoluautori	Glezos N.
	Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Nemec Pavol 1975- ^SCOPUS ^RID
	Písečný Pavol
	Velessiotis Dimitrios

Zdroj.dok.	Proceedings of the 20th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter : APCOM 2014. P. 292-295. - Bratislava : FEI STU, 2014 / Vajda J. ; Jamnický I. ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2014
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	SK - Slovenská republika
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AFDA - Publikované príspevky na medzinárodných vedeckých konferenciách poriadaných v SR
Rok vykazovania	2014

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2014

Počet záznamov: 1