Počet záznamov: 1
Study and comparison of resist characteristics for different negative tone electron beam resist
Názov Study and comparison of resist characteristics for different negative tone electron beam resist Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Spoluautori Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Koleva Elena Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012006 Jazyk dok. eng - angličtina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy WU, Yunhui - LIU, Lanlan - BO, Guohao - LI, Qiang - DAI, Chenjie - LI, Zhongyang - ZHANG, Jian - ZHANG, Xuefeng. Configurable swellability of hydrogel microstructure for structural-color-based imaging concealment/encryption. In NANOSCALE, 2024, vol. 16, no. 8, pp. 4289-4298. ISSN 2040-3364. Dostupné na: https://doi.org/10.1039/d3nr05606f. WEN, Zaoxia - LIU, Xingyu - CHEN, Wenxiu - ZHOU, Ruolin - WU, Hao - XIA, Yongmei - WU, Lianbin. Progress in Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane (POSS) Photoresists: A Comprehensive Review across Lithographic Systems. In POLYMERS, 2024, vol. 16, no. 6, pp. Dostupné na: https://doi.org/10.3390/polym16060846. SINGH, Rahul - BERTELSEN, Christian Vinther - DIMAKI, Maria - SVENDSEN, Winnie Edith. Dry etch performance of Novolak-based negative e-beam resist. In MICRO AND NANO ENGINEERING, 2024, vol. 25, no., pp. Dostupné na: https://doi.org/10.1016/j.mne.2024.100284. Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 Registrované v SCOPUS DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012006 
článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore N rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2023 2022 0.183
Počet záznamov: 1