Počet záznamov: 1  

New RP-CVD grown ultra-high performance selectively B-doped pure-Ge 20 nm QWs on (100)Si as basis material for post-Si CMOS technology

  1. NázovNew RP-CVD grown ultra-high performance selectively B-doped pure-Ge 20 nm QWs on (100)Si as basis material for post-Si CMOS technology
    Autor Mironov O.A.
    Spoluautori Hassan A.H.A.

    Uhlarz M.

    Kiatgamolchai S.

    Dobbie A.

    Morris R.J.H.

    Halpin J.E.

    Rhead S.D.

    Allred P.

    Myronov M.

    Gabáni Slavomír 1974- SAVEXFYZ - Ústav experimentálnej fyziky SAV    RID    RID    ORCID

    Berkutov I.B.

    Leadley D.R.

    Zdroj.dok. Physica status solidi C. Current topics in solid state physics. Vol. 11, no. 1 (2014), p. 61-64
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rbx)
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2014
    Registrované vWOS
    Registrované vSCOPUS
    DOI 10.1002/pssc.201300164
    článok

    článok

    rokCCIFIF Q (best)JCR Av Jour IF PercSJRSJR Q (best)CiteScore
    N
    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    201420130.439Q3
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.