Počet záznamov: 1
Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography
Názov Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Spoluautori Vutova Katia Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Ritomský Mário 1993- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings. Vol. 2778 (2023), art. no. 030001 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina US - Spojené štáty Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 Registrované v WOS Registrované v SCOPUS DOI 10.1063/5.0136258 
článok
Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Study of Lithographic Parameters for the Trilayer Resist Study of Lithographic Parameters for the Trilayer Resist.pdf Neprístupný/archív 542.3 KB 1 Vydavateľská verzia rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore N rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2023 2022 0.164
Počet záznamov: 1