Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists

Počet záznamov: 1

Názov	Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists
Autor	Koleva Elena
Spoluautori	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Vutova Katia
	Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID
	Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID

Zdroj.dok.	Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012007
Jazyk dok.	eng - angličtina
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Kategória	ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2023
Registrované v	SCOPUS
DOI	10.1088/1742-6596/2443/1/012007

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	N

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2023	2022			0.183

Počet záznamov: 1