Počet záznamov: 1
Placement measurement and FE modeling results for distortion control of stencil masks
Názov Placement measurement and FE modeling results for distortion control of stencil masks Autor Ehrmann A. Spoluautori Kaesmaier R. Kragler K. Struck T. Haugender E. Loschner H. Lutz J. Butschke J. Letzkus F. Springer R. Držík Milan SAVSTAV - Ústav stavebníctva a architektúry SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Degen A. Shi F. Volland B. Sossna E. Rangelow I.W. Engelstad R.L. Zdroj.dok. 19th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management : Proceedings. - CA, USA, 1999 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina US - Spojené štáty Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách Rok vykazovania 1999 Registrované v WOS Registrované v SCOPUS 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 0
Počet záznamov: 1