Process optimization and diffusion lenght evaluation of a new aqueous base developable negative epoxy electron beam resist

Počet záznamov: 1

Názov	Process optimization and diffusion lenght evaluation of a new aqueous base developable negative epoxy electron beam resist
Autor	Glezos N.
Spoluautori	Argitis P.
	Velossiotis D.
	Raptis I.
	Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID
	Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV ^SCOPUS ^RID ^ORCID

Zdroj.dok.	ASDAM 2000 : 3rd International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 231-234 / Osvald Jozef 1953 ; Haščík Štefan 1956 ; Kuzmík Ján 1960 ; Breza J.. - Piscataway : IEEE, 2000
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	US - Spojené štáty
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách
Rok vykazovania	2000

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2000

Počet záznamov: 1