Počet záznamov: 1  

Oxygen-tolerant photo-ATRP of hydroxyethyl methacrylate using PPM level of copper catalyst: A kinetic study

  1. NázovOxygen-tolerant photo-ATRP of hydroxyethyl methacrylate using PPM level of copper catalyst: A kinetic study
    Autor Abdul-Karim Rubina SAVCEMEA - Centrum pre využitie pokročilých materiálov SAV
    Spoluautori Mosnáček Jaroslav 1975- SAVPOLYM ; SAVCEMEA - Ústav polymérov SAV    ORCID

    Zdroj.dok. Polyméry 2020 : XI. Slovensko - Česká konferencia : kniha príspevkov a program. S. 76-77. - Bratislava : Ústav polymérov SAV, 2020 / Danko Martin 1974- ; Opálková Šišková Alena 1983- ; Eckstein Andicsová Anita 1979- ; Polyméry 2020 Slovensko-Česká konferencia
    Jazyk dok.eng - angličtina
    URLpolymer.sav.sk/polymery2020/documents/Kniha%20prispevkov_Polymery2020.pdf
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rzb)
    KategóriaAFH - Abstrakty príspevkov z domácich konferencií
    Rok vykazovania2020
    článok

    článok

    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    2020
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.