Počet záznamov: 1  

The properties of oxygen plasma annealed La2O3 films for CMOS technology

  1. NázovThe properties of oxygen plasma annealed La2O3 films for CMOS technology
    Autor Písečný Pavol SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Harmatha L.

    Jakabovič J.

    Ťapajna Milan 1977    ORCID

    Lupták Roman SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

    Čičo Karol

    Zdroj.dok. Proceedings of the 13th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter : APCOM 2007. P. 243-246. - Žilina : ŽU, 2007 / Pudiš D. ; Martinek I. ; Jamnický I. ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter
    Jazyk dok.eng - angličtina
    KrajinaSK - Slovenská republika
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rzb)
    KategóriaAED - Vedecké práce v domácich recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách
    Kategória (od 2022)V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    Typ výstupupríspevok
    Rok vykazovania2007
    článok

    článok

    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    2007
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.