Počet záznamov: 1
Dependence of PMMA electron beam resist sidewall shape on exposure dose and resist thickness
Názov Dependence of PMMA electron beam resist sidewall shape on exposure dose and resist thickness Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Spoluautori Vutova Katia Koleva Elena Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings : Applied Physics of Condensed Matter (APCOM 2021). Vol. 2411 (2021), art. no. 040001 Jazyk dok. eng - angličtina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy CAKIRLAR, Cigdem - GALDERISI, Giulio - BEYER, Christoph - SIMON, Maik - MIKOLAJICK, Thomas - TROMMER, Jens. Challenges in Electron Beam Lithography of Silicon Nanostructures. In 2022 IEEE 22ND INTERNATIONAL CONFERENCE ON NANOTECHNOLOGY (NANO), 2022, vol., no., pp. 207-210. ISSN 1944-9399. Dostupné na: https://doi.org/10.1109/NANO54668.2022.9928629. DU, L.Q. - YUAN, B.W. - GUO, B.J. - WANG, S. - CAI, X.K. Fabrication of high-aspect-ratio stepped Cu microcolumn array using UV-LIGA technology. In MICROSYSTEM TECHNOLOGIES-MICRO-AND NANOSYSTEMS-INFORMATION STORAGE AND PROCESSING SYSTEMS. ISSN 0946-7076, JUL 2023, vol. 29, no. 7, p. 999-1014. Dostupné na: https://doi.org/10.1007/s00542-023-05491-0. Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2021 Registrované v SCOPUS DOI 10.1063/5.0067068 
článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore N rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2021 2020 0.177
Počet záznamov: 1