Enhanced magnetron sputtering deposition of NiO by gas flow modulation

Počet záznamov: 1

Názov	Enhanced magnetron sputtering deposition of NiO by gas flow modulation
Autor	Hotový I.
Spoluautori	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	McPhail D.
	Rehacek V.

Zdroj.dok.	/ Mostaghimi J. . P. 570-571 ISPC 17 : proceedings of the17th International Symposium on Plasma Chemistry. - Toronto : Univ. of Toronto Press Inc., 2005
Jazyk dok.	eng - angličtina
Krajina	CA - Kanada
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AEE - Vedecké práce v zahraničných nerecenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách
Kategória (od 2022)	O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka
Typ výstupu	príspevok
Rok vykazovania	2005

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2005

Počet záznamov: 1