Počet záznamov: 1
Investigation of e-beam resists for structure patterning in the nanophotonic device fabrication
Názov Investigation of e-beam resists for structure patterning in the nanophotonic device fabrication Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID ORCID Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Glezos N. Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Škriniarová Jaroslava Zdroj.dok. / Pudiš D. ; Šušlík Ľ. ; Kováč J., jr. ; Flickyngerová S. ; Lettrichová I. Proceedings of ADEPT : 2nd International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies. P. 241-246. - Žilina : University of Žilina, 2014 ; International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies ADEPT 2014 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina SK - Slovenská republika Druh dok. rozpis článkov z periodík (rzb) Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2014 
článok
rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2014
Počet záznamov: 1