Atomic layer deposition of high-k oxides on InAlN/GaN-based materials

Počet záznamov: 1

Názov	Atomic layer deposition of high-k oxides on InAlN/GaN-based materials
Autor	Abermann S.
Spoluautori	Ostermaier C.
	Pozzovivo G.
	Kuzmík Ján 1960 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
	Bethge O.
	Henkel C.
	Strasser G.
	Pogany D.
	Giesen C.
	Heuken M.
	Kohn E.
	Alomari M.
	Bertagnolli E.

Zdroj.dok.	ECS Transactions. Vol. 25, (2009), p. 123-129
Jazyk dok.	eng - angličtina
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rbx)
Kategória	ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných
Kategória (od 2022)	V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
Typ výstupu	článok
Rok vykazovania	2010

článok

rok	CC	IF	IF Q (best)	JCR Av Jour IF Perc	SJR	SJR Q (best)	CiteScore
	N

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2009	2008			0.254	Q2

Počet záznamov: 1