Počet záznamov: 1  

Smooth GaN recess wet photoelectrochemical etching

  1. NázovSmooth GaN recess wet photoelectrochemical etching
    Autor Gregušová Dagmar 1958 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID
    Spoluautori Novák Jozef 1951 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

    Hartdegen H.

    Šoltýs Ján 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID

    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV    SCOPUS    RID    ORCID

    Greguš Ján

    Kordoš Peter SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

    Zdroj.dok. . P. 199-202 ASDAM 2004 : conference proceeding of the Fifth International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. Smolenice Castle, Slovakia October 17-21, 2004. - Piscataway : IEEE, 2004 / Osvald Jozef 1953 ; Haščík Štefan 1956
    Jazyk dok.eng - angličtina
    KrajinaUS - Spojené štáty
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rzb)
    KategóriaAEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách
    Kategória (od 2022)V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka
    Typ výstupupríspevok
    Rok vykazovania2004
    článok

    článok

    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    2004
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.