Počet záznamov: 1
Polyimide application for fabrication of open stencil mask (OSM) with high resolution for new generation lithography
Názov Polyimide application for fabrication of open stencil mask (OSM) with high resolution for new generation lithography : Technical report II-TR-SAS-LM-2006-01 Autor Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV SCOPUS RID Vyd.údaje Bratislava : Institute of Informatics Slovak Academy of Sciences , 2006 Jazyk dok. eng - angličtina Krajina SK - Slovenská republika Druh dok. knihy Kategória GAI - Správy (do roku 2014 aj výskumné štúdie) Rok vykazovania 2006 kniha
Počet záznamov: 1