Počet záznamov: 1  

Characterization of test structures for e-beam lithography for estimation of proximity exposure parameters

  1. NázovCharacterization of test structures for e-beam lithography for estimation of proximity exposure parameters
    Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV    SCOPUS    RID    ORCID
    Spoluautori Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV    SCOPUS    RID

    Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV    SCOPUS    RID

    Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV    SCOPUS    RID

    Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV    SCOPUS    RID

    Zdroj.dok. / Vajda J. ; Jamnický I. APCOM 2012 : proceedings on Applied Physics of Condensed Matter of the 18th International Conference. P. 141-144. - Bratislava : Slovenská technická univerzita v Bratislave, 2012 ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2012
    Jazyk dok.eng - angličtina
    KrajinaSK - Slovenská republika
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rzb)
    KategóriaAFDA - Publikované príspevky na medzinárodných vedeckých konferenciách poriadaných v SR
    Rok vykazovania2012
    článok

    článok

    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    2012
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.