HWCD technology of silicon carbide thin films: properties

Počet záznamov: 1

Názov	HWCD technology of silicon carbide thin films: properties
Autor	Huran Jozef 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ^ORCID
Spoluautori	Mikolášek M.
	Boháček Pavol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Kleinová Angela 1960- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV ^ORCID
	Sasinková Vlasta 1954- SAVCHEM - Chemický ústav SAV
	Kobzev A.P.
	Sekáčová Mária 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
	Arbet Juraj 1959 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV

Zdroj.dok.	/ Pudiš D. ; Lettrichová I. ; Kováč Jaroslav Jr. Proceedings of the 3th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies : ADEPT 2015 : held in Štrbské Pleso, High Tatras, Slovakia, June 1-4 2015. P. 104-107. - Žilina : Univ. Žilina, 2015
Jazyk dok.	slo - slovenčina
Druh dok.	rozpis článkov z periodík (rzb)
Kategória	AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách
Rok vykazovania	2015

článok

rok vydania	rok metriky	IF	IF Q (best)	SJR	SJR Q (best)
2015

Počet záznamov: 1