Počet záznamov: 1
Stability of AlGaN/GaN heterostructures after hydrogen plasma treatment
Názov Stability of AlGaN/GaN heterostructures after hydrogen plasma treatment Autor Babchenko Oleg 1983 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Spoluautori Dzuba Jaroslav 1987 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Lalinský Tibor 1951 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Vojs M. Vincze A. Izsák Tibor ORCID Vanko Gabriel 1981 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV ORCID Zdroj.dok. Applied Surface Science. Vol. 395 (2017), p. 92-97 Jazyk dok. eng - angličtina Druh dok. rozpis článkov z periodík (rbx) Ohlasy MISHRA, M. - KRISHNA, S. - AGGARWAL, N. - GUPTA, G. In APPLIED SURFACE SCIENCE. JUN 15 2017, vol. 407, p. 255-259. HUANG, H.L. - SUN, Z.H. - CAO, Y.Q. - LI, F.Y. - ZHANG, F. - WEN, Z.X. - ZHANG, Z.F. - LIANG, Y.C. - HU, L.Z. Investigation of surface traps-induced current collapse phenomenon in AlGaN/GaN high electron mobility transistors with schottky gate structures. In JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. AUG 30 2018, vol. 51, no. 34. LEE, M.L. - CHEN, C.H. - SHEU, J.K. Al0.3Ga0.7N/GaN heterostructure transistors with a regrown p-GaN gate formed with selective-area Si implantation as the regrowth mask. In PHYSICA E-LOW-DIMENSIONAL SYSTEMS & NANOSTRUCTURES. ISSN 1386-9477, OCT 2020, vol. 124. WANG, Y.N. - HU, X.F. - GE, L. - LIU, Z.H. - XU, M.S. - PENG, Y. - LI, B. - YANG, Y.Q. - LI, S.Q. - XIE, X.J. - WANG, X.W. - XU, X.A. - HU, X.B. Research Progress in Capping Diamond Growth on GaN HEMT: A Review. In CRYSTALS. MAR 2023, vol. 13, no. 3. Dostupné na: https://doi.org/10.3390/cryst13030500. MIMILA-ARROYO, J. - ARREOLA-PINA, A.S. - JOMARD, F. - LUSSON, A. Effect of the plasma experimental parameters on the dose and profiles of hydrogen in-diffused into the GaN/AlGaN/GaN/Si high electron mobility transistor. In MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-ADVANCED FUNCTIONAL SOLID-STATE MATERIALS. ISSN 0921-5107, APR 2023, vol. 290. Dostupné na: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2023.116279. Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2017 Registrované v WOS Registrované v SCOPUS Registrované v CCC DOI 10.1016/j.apsusc.2016.06.105 
článok
rok CC IF IF Q (best) JCR Av Jour IF Perc SJR SJR Q (best) CiteScore A rok vydania rok metriky IF IF Q (best) SJR SJR Q (best) 2017 2016 3.387 Q1 0.958 Q1
Počet záznamov: 1