Počet záznamov: 1  

CoPt/TiN films nanopatterned by RF plasma etching towards dot-patterned magnetic media

  1. NázovCoPt/TiN films nanopatterned by RF plasma etching towards dot-patterned magnetic media
    Autor Szívós János
    Spoluautori Pothorszky S.

    Šoltýs Ján 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV    ORCID

    Serenyi M.

    An H.

    Gao T.

    Deák A.

    Shi J.

    Sáfrán G.

    Zdroj.dok. Applied Surface Science. Vol. 435 (2018), p. 31-38
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Druh dok.rozpis článkov z periodík (rbx)
    OhlasyTOYAMA, R. - KAWACHI, S. - YAMAURA, J.I. - MURAKAMI, Y. - HOSONO, H. - MAJIMA, Y. Ti underlayer effect on the ordering of CoPt in (Co/Pt)(4) multilayer thin films on Si/SiO2 substrates. In JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. ISSN 0021-4922, JUL 1 2020, vol. 59, no. 7.
    TOYAMA, R. - KAWACHI, S. - IIMURA, S. - YAMAURA, J. - MURAKAMI, Y. - HOSONO, H. - MAJIMA, Y. Formation of L1(0)-ordered CoPt during interdiffusion of electron-beam-deposited Pt/Co bilayer thin films on Si/SiO2 substrates by rapid thermal annealing. In MATERIALS RESEARCH EXPRESS. JUN 2020, vol. 7, no. 6.
    PEDAN, R. - MAKUSHKO, P. - DUBIKOVSKYI, O. - BODNARUK, A. - BURMAK, A. - SIDORENKO, S. - VOLOSHKO, S. - KALITA, V. - HUBNER, R. - MAKAROV, D. - VLADYMYRSKYI, I. Homogenization and short-range chemical ordering of Co-Pt alloys driven by the grain boundary migration mechanism. In JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS. ISSN 0022-3727, OCT 6 2022, vol. 55, no. 40. Dostupné na: https://doi.org/10.1088/1361-6463/ac8204.
    LI, K. - XU, J.W. - LI, P. - FAN, Y.B. A review of magnetic ordered materials in biomedical field: Constructions, applications and prospects. In COMPOSITES PART B-ENGINEERING. ISSN 1359-8368, JAN 1 2022, vol. 228. Dostupné na: https://doi.org/10.1016/j.compositesb.2021.109401.
    KategóriaADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2018
    Registrované vWOS
    Registrované vSCOPUS
    Registrované vCCC
    DOI 10.1016/j.apsusc.2017.11.062
    článok

    článok

    rokCCIFIF Q (best)JCR Av Jour IF PercSJRSJR Q (best)CiteScore
    A
    rok vydaniarok metrikyIFIF Q (best)SJRSJR Q (best)
    201820174.439Q11.093Q1
Počet záznamov: 1  

  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.