Výsledky vyhľadávania
Názov Standard AZ 5214E photoresist in laser interference and EBDW lithographies Autor Škriniarová Jaroslava Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Pudiš D. Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Šušlík Ľ. Zdroj.dok. Vacuum. Vol. 111 (2015), p. 5-8 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2014 DOI 10.1016/j.vacuum.2014.09.012 URL URL link Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Standard AZ 5214E photoresist in laser interference and EBDW lithographies.pdf Prístupný 1 MB 0 Vydavateľská verzia 
článok
Názov Proceedings of ADEPT : 2nd International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies Ďalší autori Pudiš D. Šušlík Ľ. Kováč J., jr. Flickyngerová S. Lettrichová I. Akcia International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies. ADEPT 2014 ( 2 : June 1-2, 2014 : Tatranská Lomnica ) Vyd.údaje Žilina : University of Žilina , 2014. - 285 p. Odkazy (13) Publikačná činnosť SAV - články 
kniha