Výsledky vyhľadávania

Nájdených záznamov: 243  
Váš dotaz: Autor = "Kostič Ivan"
  1. NázovGross morphology and adhesion-associated physical properties of Drosophila larval salivary gland glue secretion
    Autor Beňo Milan SAVBIOMED - Biomedicínske centrum SAV
    Spoluautori Beňová-Liszeková Denisa 1977 SAVBIOMED - Biomedicínske centrum SAV
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Šerý Michal
    Mentelová Lucia
    Procházka Michal 1987- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV
    Šoltýs Ján 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
    Trusinová L. SAVEXEND - Ústav experimentálnej endokrinológie SAV
    Ritomský Mário 1993- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Orovčík Ľubomír SAVMAMES - Ústav materiálov a mechaniky strojov SAV
    Jerigová Monika
    Velič Dušan
    Machata Peter 1987- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV
    Omastová Mária 1962- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV
    Chase Bruce A.
    Farkaš Robert SAVEXEND - Ústav experimentálnej endokrinológie SAV
    Zdroj.dok. Scientific Reports. Vol. 14, no. 1 (2024), art.no. 9779, [27]p.
    KategóriaADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2024
    DOI 10.1038/s41598-024-57292-8
    článok

    článok

  2. NázovStudy and comparison of resist characteristics for different negative tone electron beam resist
    Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Koleva Elena
    Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012006
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2023
    DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012006
    článok

    článok

  3. NázovStudy of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography
    Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Ritomský Mário 1993- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings. Vol. 2778 (2023), art. no. 030001
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2023
    DOI 10.1063/5.0136258
    článok

    článok

  4. NázovOptimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists
    Autor Koleva Elena
    Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Vutova Katia
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012007
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2023
    DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012007
    článok

    článok

  5. NázovDependence of PMMA electron beam resist sidewall shape on exposure dose and resist thickness
    Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Koleva Elena
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings : Applied Physics of Condensed Matter (APCOM 2021). Vol. 2411 (2021), art. no. 040001
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2021
    DOI 10.1063/5.0067068
    článok

    článok

  6. NázovPreparation and gas-sensing properties of very thin sputtered NiO films
    Autor Hotový I.
    Spoluautori Řeháček V.
    Kemeny M.
    Ondrejka P.
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Mikolášek M.
    Spiess L.
    Zdroj.dok. Journal of Electrical Engineering. Vol. 72, no. 1 (2021), p. 61-65
    KategóriaADNA - Vedecké práce v domácich impaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2021
    DOI 10.2478/jee-2021-0009
    Názov súboruPrístupVeľkosťStiahnutéTypLicence
    Preparation and gas-sensing properties of very thin sputtered NiO films.pdfPrístupný1.7 MB0Vydavateľská verzia
    článok

    článok

  7. NázovOptimization of electron beam lithography processing of resist AR-N 7520
    Autor Koleva Elena
    Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Koleva Lilyana
    Vutova Katia
    Markova Irina
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Akcia VI International scientific conference INDUSTRY 4.0. Winter session : 8-11 December 2021 : Borovets, Bulgaria
    Zdroj.dok. Industry 4.0. Vol. 6, no. 5 (2021), p. 189-191
    KategóriaADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok z podujatia
    Rok vykazovania2022
    článok

    článok

  8. NázovLayered WS2 thin films prepared by sulfurization of sputtered W films
    Autor Hotový I.
    Spoluautori Spiess L.
    Mikolášek M.
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Sojková Michaela 1980 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
    Romanus H.
    Hulman Martin 1967 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV
    Búc D.
    Řeháček V.
    Zdroj.dok. Applied Surface Science. Vol. 544 (2021), no. 148719
    KategóriaADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2021
    DOI 10.1016/j.apsusc.2020.148719
    Názov súboruPrístupVeľkosťStiahnutéTypLicence
    Layered WS2 thin films prepared by sulfurization of sputtered W films.pdfNeprístupný/archív3.6 MB2Vydavateľská verzia
    článok

    článok

  9. NázovStructural and morphological evaluation of layered WS2 thin films
    Autor Hotový I.
    Spoluautori Spiess L.
    Mikolášek M.
    Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Romanus H.
    Zdroj.dok. Vacuum. Vol. 179 (2020), art. no. 109570
    KategóriaADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2020
    DOI 10.1016/j.vacuum.2020.109570
    Názov súboruPrístupVeľkosťStiahnutéTypLicence
    Structural and morphological evaluation of layered WS2 thin films.pdfPrístupný1.3 MB0Vydavateľská verzia
    článok

    článok

  10. NázovPMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters
    Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Spoluautori Vutova Katia
    Koleva Elena
    Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV
    Akcia VEIT 2019. 21st International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : 23-27 September 2019 : Sozopol, Bulgaria
    Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 1492 (2020), art. no. 012015
    KategóriaADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS
    Kategória (od 2022)V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu
    Typ výstupučlánok
    Rok vykazovania2020
    DOI 10.1088/1742-6596/1492/1/012015
    Názov súboruPrístupVeľkosťStiahnutéTypLicence
    PMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters.pdfPrístupný748.1 KB1Vydavateľská verzia
    článok

    článok


  Tieto stránky využívajú súbory cookies, ktoré uľahčujú ich prezeranie. Ďalšie informácie o tom ako používame cookies.