Výsledky vyhľadávania
Názov Chemically amplified deep UV resist for micromachining using electron beam lithography and dry etching Autor Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Rangelow I.W. Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Stangl Guenther Grabiec P.B. Rangelow E.W. Belov Miroslav Shi F. Zdroj.dok. Sensors and Materials. Vol. 10, no. 4 (1998) p. 219-227 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 1998 
článok