Výsledky vyhľadávania
Názov Experimental and theoretical study on chemically semi-amplified resist AR-P 6200 Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Tanaka Takeshi Korp. VEIT 2017. 20th International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : Black Sea Resort Sozopol, Bulgaria : September 25-29, 2017 Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 992 (2018), art. no. 012057 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2018 DOI 10.1088/1742-6596/992/1/012057 URL URL link Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Experimental and theoretical study on chemically semi-amplified resist AR-P 6200.pdf Prístupný 1.2 MB 0 Vydavateľská verzia 
článok
Názov Application of direct write variable shape e-beam lithography Autor Jablonská Viera 1965- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. / Bardošová Mária 13th European Conference on Organised Films : ECOF 13. P. P35. - Cork : Tyndall National Institute UCC, 2013 ; European Conference on Organised Films ECOF 13 Kategória BFA - Abstrakty odborných prác zo zahraničných podujatí (konferencie...) Rok vykazovania 2013 článok
Názov Investigation of the high sensitive negative resist for the photomasks fabrication by e-beam lithography Autor Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. Elektrotechnica & elektronica E+E. Vol. 47 (2012) no. 5-6, p. 5-9 Kategória ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2012 článok
Názov Nanoštruktúry pre vývoj obvodov a senzorov : príprava nanoštruktúr metódou elektrónovej litografie Preklad názvu Nanostructures for the development of circuits and sensors : preparation of nanostructure by e-beam lithography Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Jablonská Viera 1965- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Považan Ivo 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. / Hluchý Ladislav 1952- ; Kozák Štefan ; Budinská Ivana 1964- Informačné technológie na predvídanie a riešenie krízových situácií : seminár. 7 p.. - Bratislava : Ústav informatiky SAV, 2012 ; Seminár Informačné technológie na predvídanie a riešenie krízových situácií Kategória AFDB - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2012 článok
Názov Alignment marks for the EBDW lithography Autor Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Partel S. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. / Vajda J. ; Weiss M. APCOM 2010 : proceedings of the 16th International Conference on Applied Physics of Condensed matter. P. 252-255. - Bratislava : Slovenská technická univerzita v Bratislave, 2010 ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2010 Kategória AED - Vedecké práce v domácich recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2010 článok
Názov Material optimization of the alignment marks for the EBDW lithography Autor Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Partel S. Hudek Peter 1953- Zdroj.dok. ASDAM 2010 : proceedings of the 8th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 85-88. - Piscataway : IEEE, 2010 / Breza J. ; Donoval D. ; Vavrinský E. Kategória AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2010 DOI 10.1109/ASDAM.2010.5666341 článok
Názov Investigation of exposure parameters of e-beam resists for photomasks fabrication Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. / Sulzbach Thomas ; Rangelow I.W. PRONANO : proceedings of the Integrated Project on Massively Parallel Intelligent Cantilever Probe Platforms for Nanoscale Analysis and Synthesis. P. 99-110. - Münster : MV Wissenschaft, 2010 Kategória AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2010 článok
Názov E-beam lithography for photomask fabrication Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Čaplovič Igor 1948 SAVINFO - Ústav informatiky SAV Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. / Scharff Peter Multicantilever parallel scanning systems : proceedings: PRONANO Workshop 2009. P. 71-78. - Ilmenau : Ilmenau University of Technology, 2009 ; Internationales Wissenschaftliches Kolloquium workshop PRONANO Kategória AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2009 článok
Názov New progressive method suitable for the exposure optimization of large and complex defect-free chips direct written by ZBA 21 e-beam tool Autor Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Partel Stefan Hudek Peter 1953- Zdroj.dok. / Haščík Štefan 1956 ; Osvald Jozef 1953 ASDAM 2008 : conference proceedings. P. 199-202. - Piscataway, NJ : Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2008 ; International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems Kategória AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2008 DOI 10.1109/ASDAM.2008.4743316 článok
Názov Overenie postupov pri priamej elektrónovej litografii s využitím justážnych značiek na čipe Autor Písečný Pavol SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Vyd.údaje Bratislava : Ústav informatiky SAV , 2007 Kategória AGI - Správy o vyriešených vedeckovýskumných úlohách Rok vykazovania 2007 Projekt Technická správa ÚI SAV, TR-2007-25-01 - VEGA 2/6184/26 
kniha