Výsledky vyhľadávania
Názov Si-based metal-insulator-semiconductor structures with RuO2-(IrO2) films for photoelectrochemical water oxidation Autor Sahoo P.P. SAVCEMEA - Centrum pre využitie pokročilých materiálov SAV Spoluautori Mikolášek M. Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Dobročka Edmund 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Šoltýs Ján 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Ondrejka P. Kemeny M. Harmatha L. Mičušík Matej 1977- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. ACS Applied Energy Materials. Vol. 4 (2021), p. 11162-11172 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2021 DOI 10.1021/acsaem.1c02021 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Si-Based Metal−Insulator−Semiconductor Structures with RuO2.pdf Neprístupný/archív 2.7 MB 1 Vydavateľská verzia Názov Development and characterisation of photoelectrochemical MIS structures with RuO2/TiO2 gate stacs for water oxidation Autor Mikolášek M. Spoluautori Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Ondrejka P. Chymo F. Kemeny M. Hotový I. Harmatha L. Zdroj.dok. Journal of Electrical Engineering. Vol. 72 (2021), p. 203–207 Kategória ADNA - Vedecké práce v domácich impaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2021 DOI 10.2478/jee-2021-0028 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Development and characterisation of photoelectrochemical.pdf Neprístupný/archív 303.8 KB 0 Vydavateľská verzia Názov Development and characterization of photo-electrochemical MIS structures for hydrogen generation applications Autor Chymo F. Spoluautori Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Harmatha L. Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Ondrejka P. Kemeny M. Hotový I. Mikolášek M. Zdroj.dok. ADEPT 2019 : 7th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies. P. 103-106. - Žilina, Slovakia : University of Žilina, 2019 / Jandura D. ; Šušlik Ľ. ; Urbancová P. ; Kováč J., jr. ; ADEPT 2019 7th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2019 Názov Influence of TiO2 thickness on the performance of IMIS silicon based water splitting photoanode Autor Mikolášek M. Spoluautori Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Chymo F. Řeháček V. Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Kundrata Ivan SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Racko J. Harmatha L. Zdroj.dok. SURFINT - SREN IV 2019 : Extended Abstract Book. P. 104-105. - Slovak Republic : Comenius University Bratislava, 2019 / Brunner Róbert 1954 ; SURFINT - SREN IV : Progress in applied surface, interface and thin film science Kategória AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2019 Názov Characterization of MIS photoanode with a thin SiO2 layer for photoelectrochemical water splitting Autor Chymo F. Spoluautori Fröhlich Karol 1954 SAVCEMEA - Centrum pre využitie pokročilých materiálov SAV Kundrata Ivan SAVCEMEA - Centrum pre využitie pokročilých materiálov SAV Hušeková Kristína 1957 SAVCEMEA - Centrum pre využitie pokročilých materiálov SAV Harmatha L. Racko J. Breza J. Mikolášek M. Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings : Applied Physics of Condensed Matter (APCOM 2019). Vol. 2131 (2019), no. 020020 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2019 DOI 10.1063/1.5119473 Názov Silicon based MIS photoanode for water oxidation: a comparison of RuO2 and Ni Schottky contacts Autor Mikolášek M. Spoluautori Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Racko J. Rehacek V. Chymo F. Ťapajna Milan 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Harmatha L. Zdroj.dok. Applied Surface Science. Vol. 461 (2018), p. 48-53 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2018 DOI 10.1016/j.apsusc.2018.04.234 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Silicon based MIS photoanode for water oxidation.pdf Neprístupný/archív 795.1 KB 0 Vydavateľská verzia Názov MIS structures with RuO2 Schottky contact for photoelectrochemical water splitting Autor Mikolášek M. Spoluautori Chymo F. Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Hušeková Kristína 1957 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Ondrejka P. Racko J. Hotový I. Breza J. Harmatha L. Zdroj.dok. ASDAM 2018 : The Twelfth International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 163-165. - : IEEE, 2018 / Breza J. ; Donoval D. ; Vavrinský E. ; ASDAM 2018 The Twelfth International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2018 Názov High-field electron mobility model of vertical charge transport in Al/Al2O3/GaN/AlGaN/GaN heterostructures Autor Racko J. Spoluautori Mikolášek M. Lalinský Tibor 1951 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Grmanová A. Benko P. Kadlečíková M. Harmatha L. Breza Juraj Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings : Applied Physics of Condensed Matter (APCOM 2018). Vol. 1996 (2018), no. 020038 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2018 DOI 10.1063/1.5048890 Názov X-ray diffraction analysis of residual stresses in textured ZnO thin films Autor Dobročka Edmund 1955 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Spoluautori Novák P. Búc D. Harmatha L. Murín J. Zdroj.dok. Applied Surface Science. Vol. 395 (2017), p. 16-23 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2017 DOI 10.1016/j.apsusc.2016.06.060 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence X ray diffraction analysis of residual stresses in textured ZnO thin films.pdf Neprístupný/archív 1.7 MB 0 Vydavateľská verzia Názov Silicon based MOS structures with a Ti02 layer grown by atomic layer deposition for solar fuel generation Autor Harmatha L. Spoluautori Mikolášek M. Racko J. Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Ťapajna Milan 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Benko P. Zdroj.dok. APCOM 2017 : proceedings of the 23th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter, June 12-14, 2017, Štrbské Pleso, Slovak Republic. P. 263-266. - Bratislava : SPEKTRUM STU, 2017 / Vajda J. ; Jamnický I. Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2017