Výsledky vyhľadávania
Názov Metal oxide/silicon oxide multilayer with smooth interfaces produced by in situ controlled plasma-enhanced MOCVD Autor Hamelmann F. Spoluautori Haindl G. Schmalhorst J. Aschentrup A. Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV Kleineberg U. Heinzmann U. Klipp A. Jutzi P. Anopchenko A.S. SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV Jergel Matej 1954- SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV Luby Štefan 1941 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV Zdroj.dok. Thin Solid Films. Vol. 358 (2000), p. 90-93 Kategória ADC Rok vykazovania 2000 DOI 10.1016/S0040-6090(99)00695-1 
článok