Výsledky vyhľadávania
Názov Atomic layer deposition and properties of mixed Ta2O5 ZrO2 films Autor Kukli K. Spoluautori Kemeli M. Vehkamäki M. Heikkilä M.J. Mizohata K. Kalam K. Ritala M. Leskelä M. Kundrata Ivan SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Fröhlich Karol 1954 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Zdroj.dok. AIP Advances. Vol. 7 (2017), no. 025001 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2017 DOI 10.1063/1.4975928 
článok