Výsledky vyhľadávania
Názov Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Mário 1993- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings. Vol. 2778 (2023), art. no. 030001 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 DOI 10.1063/5.0136258 
článok
Názov Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012007 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012007 článok
Názov Optimization of electron beam lithography processing of resist AR-N 7520 Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Koleva Lilyana Vutova Katia Markova Irina Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia VI International scientific conference INDUSTRY 4.0. Winter session : 8-11 December 2021 : Borovets, Bulgaria Zdroj.dok. Industry 4.0. Vol. 6, no. 5 (2021), p. 189-191 Kategória ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok z podujatia Rok vykazovania 2022 článok
Názov Study on electron beam irradiation sensitive polymers Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia International Conference of Condensed Matter (APCOM 2017) : June 12-14, 2017 : Štrbské Pleso, Slovak Republic Zdroj.dok. APCOM 2017 : Proceedings of the 23th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter, June 12-14, 2017, Štrbské Pleso, Slovak Republic. P. 194-198. - Bratislava : SPEKTRUM STU, 2017 / Vajda J. ; Jamnický I. Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2017 článok
Názov Resist characteristics simulation of HSQ electron beam resist Autor Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Koleva Elena Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Mladenov Georgy Zdroj.dok. Electrotechnica & electronica E+E. Vol. 51, no. 5-6 (2016), p. 246-250 Kategória ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2016 článok
Názov Study on polymers with implementation in electron beam lithography Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Koleva Elena Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Mladenov Georgy Zdroj.dok. Polymer Science : Research advances, practical applications and educational aspects. No. 1, p. 488-497. - Spain : Formatex Research Center, 2016 Kategória BEE - Odborné práce v zahraničných zborníkoch (konferenčných aj nekonferečných, recenzovaných aj nerecenzovaných) (do roku 2014 len nerecenzované) Kategória (od 2022) O2 - Odborný výstup publikačnej činnosti ako časť knižnej publikácie alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 2016 článok
Názov Patterning of structures by e-beam lithography and ion etching for gas sensor applications Autor Ďurina P. Spoluautori Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Vutova Katia Koleva Elena Mladenov Georgy Kuš P. Pleceník A. Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 514 (2014), art. no. 012037 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2014 DOI 10.1088/1742-6596/514/1/012037 článok
Názov Study of electron beam resists: negative tone HSQ and positive tone SML300 Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Koleva Elena Vutova Katia Mladenov Georgy Akcia International Conference on Electron Beam Technologies ( 11th : June 8-12, 2014 : Varna ) Zdroj.dok. Elektrotechnika i elektronika E+E : Eleventh International Conference on Electron Beam Technologies. Vol. 49 (2014) no. 5-6 Kategória ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2014 článok
Názov Investigation of e-beam resists for structure patterning in the nanophotonic device fabrication Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Glezos N. Haščík Štefan 1956 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Škriniarová Jaroslava Zdroj.dok. / Pudiš D. ; Šušlík Ľ. ; Kováč J., jr. ; Flickyngerová S. ; Lettrichová I. Proceedings of ADEPT : 2nd International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies. P. 241-246. - Žilina : University of Žilina, 2014 ; International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies ADEPT 2014 Kategória AFD - Publikované príspevky na domácich vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2014 článok
Názov Limits to nanopatterning based on e-beam lithography Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Glezos N. Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- Písečný Pavol Velessiotis Dimitrios Zdroj.dok. Proceedings of the 20th International Conference on Applied Physics of Condensed Matter : APCOM 2014. P. 292-295. - Bratislava : FEI STU, 2014 / Vajda J. ; Jamnický I. ; International Conference on Applied Physics of Condensed Matter APCOM 2014 Kategória AFDA - Publikované príspevky na medzinárodných vedeckých konferenciách poriadaných v SR Rok vykazovania 2014 článok