Výsledky vyhľadávania
Názov Gross morphology and adhesion-associated physical properties of Drosophila larval salivary gland glue secretion Autor Beňo Milan SAVBIOMED - Biomedicínske centrum SAV Spoluautori Beňová-Liszeková Denisa 1977 SAVBIOMED - Biomedicínske centrum SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Šerý Michal Mentelová Lucia Procházka Michal 1987- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Šoltýs Ján 1977 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Trusinová L. SAVEXEND - Ústav experimentálnej endokrinológie SAV Ritomský Mário 1993- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Orovčík Ľubomír SAVMAMES - Ústav materiálov a mechaniky strojov SAV Jerigová Monika Velič Dušan Machata Peter 1987- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Omastová Mária 1962- SAVPOLYM - Ústav polymérov SAV Chase Bruce A. Farkaš Robert SAVEXEND - Ústav experimentálnej endokrinológie SAV Zdroj.dok. Scientific Reports. Vol. 14, no. 1 (2024), art.no. 9779, [27]p. Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2024 DOI 10.1038/s41598-024-57292-8 Názov Study and comparison of resist characteristics for different negative tone electron beam resist Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Koleva Elena Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012006 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012006 Názov Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Mário 1993- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings. Vol. 2778 (2023), art. no. 030001 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 DOI 10.1063/5.0136258 Názov Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012007 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012007 Názov Dependence of PMMA electron beam resist sidewall shape on exposure dose and resist thickness Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Koleva Elena Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings : Applied Physics of Condensed Matter (APCOM 2021). Vol. 2411 (2021), art. no. 040001 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2021 DOI 10.1063/5.0067068 Názov Preparation and gas-sensing properties of very thin sputtered NiO films Autor Hotový I. Spoluautori Řeháček V. Kemeny M. Ondrejka P. Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Mikolášek M. Spiess L. Zdroj.dok. Journal of Electrical Engineering. Vol. 72, no. 1 (2021), p. 61-65 Kategória ADNA - Vedecké práce v domácich impaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2021 DOI 10.2478/jee-2021-0009 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Preparation and gas-sensing properties of very thin sputtered NiO films.pdf Prístupný 1.7 MB 0 Vydavateľská verzia Názov Optimization of electron beam lithography processing of resist AR-N 7520 Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Koleva Lilyana Vutova Katia Markova Irina Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia VI International scientific conference INDUSTRY 4.0. Winter session : 8-11 December 2021 : Borovets, Bulgaria Zdroj.dok. Industry 4.0. Vol. 6, no. 5 (2021), p. 189-191 Kategória ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok z podujatia Rok vykazovania 2022 Názov Layered WS2 thin films prepared by sulfurization of sputtered W films Autor Hotový I. Spoluautori Spiess L. Mikolášek M. Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Sojková Michaela 1980 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Romanus H. Hulman Martin 1967 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Búc D. Řeháček V. Zdroj.dok. Applied Surface Science. Vol. 544 (2021), no. 148719 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2021 DOI 10.1016/j.apsusc.2020.148719 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Layered WS2 thin films prepared by sulfurization of sputtered W films.pdf Neprístupný/archív 3.6 MB 2 Vydavateľská verzia Názov Structural and morphological evaluation of layered WS2 thin films Autor Hotový I. Spoluautori Spiess L. Mikolášek M. Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Romanus H. Zdroj.dok. Vacuum. Vol. 179 (2020), art. no. 109570 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2020 DOI 10.1016/j.vacuum.2020.109570 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Structural and morphological evaluation of layered WS2 thin films.pdf Prístupný 1.3 MB 0 Vydavateľská verzia Názov PMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Koleva Elena Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia VEIT 2019. 21st International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : 23-27 September 2019 : Sozopol, Bulgaria Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 1492 (2020), art. no. 012015 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2020 DOI 10.1088/1742-6596/1492/1/012015 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence PMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters.pdf Prístupný 748.1 KB 1 Vydavateľská verzia