Výsledky vyhľadávania
Názov Fabrication of open stencil masks with asymmetric void ratio for the ion projection lithography space charge experiment Autor Volland B. Spoluautori Shi F. Heerlein H. Rangelow I.W. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Cekan E. Vonach H. Loeschner Hans Horner C. Stengl G. Buschbeck H. Zeininger M. Bleeker A. Benschop J. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 18, no. 6 (2000), p. 3202-3206 Kategória ADC Rok vykazovania 2000 DOI 10.1116/1.1319688 
článok
Názov Minimum ion bean exposure dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices Autor Bruenger W.H. Spoluautori Torkler M. Weiss M. Loeschner Hans Leung K. Lee Y. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Rangelow I.W. Stangl Guenther Fallmann W. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3119-3121 Kategória ADC Rok vykazovania 1999 článok
Názov Experimental results of the stochastic coulomb interaction in ion projection lithography. Autor Jager W.H. Spoluautori Derksen G. Mertens B. Cekan E. Lammer G. Vonach H. Buschbeck H. Zeininger M. Horner C. Loeschner Hans Stengl G. Bleeker A. Benschop J. Shi F. Volland B. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Heerlein H. Rangelow I.W. Kaesmaier R. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3099-3106 Kategória ADC Rok vykazovania 1999 článok
Názov Directly sputtered stress-compensated carbon protective layer for silicon stencil masks Autor Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Držík Milan SAVSTAV - Ústav stavebníctva a architektúry SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Torres J. Wasson J. Wolfe J.C. Degen A. Rangelow I.W. Voigt D. (Dieter) Butschke J. Letzkus F. Springer R. Ehrmann A. Kaesmaier R. Kragler K. Mathuni J. Loeschner Hans Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3127-3131 Kategória ADC Rok vykazovania 1999 článok
Názov DUV resist UV II HS applied to high resolution electron beam lithography and to masked ion beam proximity and reduction printing Autor Bruenerg W. H. Spoluautori Buschbeck H. Cekan E. Eder S. Fedynyshyn T. H. Hertlein W. G. Hudek Peter 1953- Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Loeschner Hans Rangelow I.W. Torkler M. Zdroj.dok. Microelectronic Engineering : an International Journal of Semiconductor Manufacturing Technology. Vol. 42 (1998) p. 237-240 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 1998 DOI 10.1016/S0167-9317(98)00054-9 článok