Výsledky vyhľadávania
Názov Optimization of electron beam lithography processing of resist AR-N 7520 Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Koleva Lilyana Vutova Katia Markova Irina Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia VI International scientific conference INDUSTRY 4.0. Winter session : 8-11 December 2021 : Borovets, Bulgaria Zdroj.dok. Industry 4.0. Vol. 6, no. 5 (2021), p. 189-191 Kategória ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok z podujatia Rok vykazovania 2022 
článok