Výsledky vyhľadávania
Názov Reactive ion etching with end point detection of microstructured Mo/Si multilayers by optical emission spectroscopy Autor Dreeskornfeld L. Spoluautori Segler R. Haindl G. Wehmeyer O. Rahn S. Majková Eva 1950 SAVFYZIK - Fyzikálny ústav SAV Kleineberg U. Heinzmann U. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. Microelectronic Engineering. Vol. 54, no. 3-4 (2000), p. 303-314 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2000 DOI 10.1016/S0167-9317(99)00449-9 
článok