Výsledky vyhľadávania
Názov Aqueous base developable epoxy resist for high sensitivity electron beam lithography Autor Argitis P. Spoluautori Glezos N. Vasilopoulou M. Raptis I. Hatzakis M. Everett J. Meneghini G. Palumbo A. Ardito M. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia MNE'99. Micro and Nano Engineering International Conference : September 21-23, 1999 : Roma, Italy Zdroj.dok. Microelectronic Engineering. Vol. 53, No. 1-4 (2000), p. 453-456 Kategória ADC Rok vykazovania 2000 DOI 10.1016/S0167-9317(00)00354-3 
článok
Názov Aqueous base development and acid diffusion length optimization in negative epoxy resist for electron beam lithography Autor Glezos N. Spoluautori Argitis P. Velossiotis D. Raptis I. Hatzakis M. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 18, no. 6 (2000), p. 3441-3434 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Rok vykazovania 2000 DOI 10.1116/1.1324615 článok
Názov Process optimization and diffusion lenght evaluation of a new aqueous base developable negative epoxy electron beam resist Autor Glezos N. Spoluautori Argitis P. Velossiotis D. Raptis I. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia ASDAM 2000. The Third International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems ( 3 : October 16-18 2000 : Smolenice Castle, Slovensko ) Zdroj.dok. ASDAM 2000 : 3rd International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 231-234 / Osvald Jozef 1953 ; Haščík Štefan 1956 ; Kuzmík Ján 1960 ; Breza J.. - Piscataway : IEEE, 2000 Kategória AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2000 článok