Výsledky vyhľadávania
Názov Cathode sputtered permalloy films of high AMR effect and low coercivity Autor Stangl Guenther Spoluautori Aigner P. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Chabicovsky R. Hauser H. Hochreiter J. Riedling R. Akcia ASDAM 2000. The Third International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems ( 3 : October 16-18 2000 : Smolenice Castle, Slovensko ) Zdroj.dok. ASDAM 2000 : 3rd International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 151-156 / Osvald Jozef 1953 ; Haščík Štefan 1956 ; Kuzmík Ján 1960 ; Breza J.. - Piscataway : IEEE, 2000 Kategória AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2000 DOI 10.1109/ASDAM.2000.889470 Názov Minimum ion bean exposure dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices Autor Bruenger W.H. Spoluautori Torkler M. Weiss M. Loeschner Hans Leung K. Lee Y. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Rangelow I.W. Stangl Guenther Fallmann W. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3119-3121 Kategória ADC Rok vykazovania 1999 Názov Chemically amplified deep UV resist for micromachining using electron beam lithography and dry etching Autor Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Rangelow I.W. Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Stangl Guenther Grabiec P.B. Rangelow E.W. Belov Miroslav Shi F. Zdroj.dok. Sensors and Materials. Vol. 10, no. 4 (1998) p. 219-227 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 1998 Názov Patterning of monolayers of crystalline S-layer proteins on a silicon surface by deep ultraviolet radiation Autor Pum D. Spoluautori Stangl Guenther Sponer C. Riedling K. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Fallmann W. Sleytr U.B. Zdroj.dok. Microelectronic Engineering : an international journal of semiconductor manufacturing technology. Vol. 35, no. 1-4 (1997), p. 297-300 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 1997 Názov Electron beam litography and reactive ion etching for niobium nanobridges fabrication Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Rangelow I.W. Borkowicz Z. Beňačka Štefan 1933 SAVELEK - Elektrotechnický ústav SAV Stangl Guenther Zdroj.dok. / Beňačka Štefan 1933 ; Seidel P. ; Štrbík Vladimír 1954 . P. 121-127 Weak Superconductivity : proceedings of the Seventh International Symposium. - Bratislava : IEE SAS, 1994 Kategória AEC - Vedecké práce v zahraničných recenzovaných vedeckých zborníkoch (aj konferenčných), monografiách Kategória (od 2022) V2 - Vedecký výstup publikačnej činnosti ako časť editovanej knihy alebo zborníka Typ výstupu príspevok Rok vykazovania 1994