Výsledky vyhľadávania
Názov Computer simulation of resist profiles at electron beam nanolithography Autor Vutova Katia Spoluautori Koleva Elena Mladenov Georgy Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Tanaka T. Zdroj.dok. Microelectronic Engineering : an international journal of semiconductor manufacturing technology. Vol. 87, (2010), p. 1108-1111 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2010 DOI 10.1016/j.mee.2009.11.045 
článok
Názov A simulation model for chemically amplified resist CAMP6 Autor Vutova Katia Spoluautori Koleva Elena Mladenov Georgy Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Tanaka T. Kawabata Keishi Zdroj.dok. Microelectronic Engineering : an international journal of semiconductor manufacturing technology. Vol. 86, (2009) p. 714-717 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2009 DOI 10.1016/j.mee.2008.11.010 článok
Názov A simulation model for chemically amplified resist CAMP6 : abstract book Autor Vutova Katia Spoluautori Koleva Elena Mladenov Georgy Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Tanaka T. Kawabata Keishi Akcia International Conference on Micro & nano Engineering. MNE 2008 ( 34th : September 15-19, 2008 : Athens ) Zdroj.dok. 34th International Conference on Micro & nano Engineering : MNE 2008. -, 2008 Kategória AFG - Abstrakty príspevkov zo zahraničných konferencií Rok vykazovania 2008 DOI 10.1016/j.mee.2008.11.010 článok