Výsledky vyhľadávania
Názov Aqueous base developable epoxy resist for high sensitivity electron beam lithography Autor Argitis P. Spoluautori Glezos N. Vasilopoulou M. Raptis I. Hatzakis M. Everett J. Meneghini G. Palumbo A. Ardito M. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia MNE'99. Micro and Nano Engineering International Conference : September 21-23, 1999 : Roma, Italy Zdroj.dok. Microelectronic Engineering. Vol. 53, No. 1-4 (2000), p. 453-456 Kategória ADC Rok vykazovania 2000 DOI 10.1016/S0167-9317(00)00354-3 
článok