Výsledky vyhľadávania
Názov Aqueous base development and acid diffusion length optimization in negative epoxy resist for electron beam lithography Autor Glezos N. Spoluautori Argitis P. Velossiotis D. Raptis I. Hatzakis M. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 18, no. 6 (2000), p. 3441-3434 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Rok vykazovania 2000 DOI 10.1116/1.1324615 
článok
Názov Process optimization and diffusion lenght evaluation of a new aqueous base developable negative epoxy electron beam resist Autor Glezos N. Spoluautori Argitis P. Velossiotis D. Raptis I. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia ASDAM 2000. The Third International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems ( 3 : October 16-18 2000 : Smolenice Castle, Slovensko ) Zdroj.dok. ASDAM 2000 : 3rd International EuroConference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 231-234 / Osvald Jozef 1953 ; Haščík Štefan 1956 ; Kuzmík Ján 1960 ; Breza J.. - Piscataway : IEEE, 2000 Kategória AFC - Publikované príspevky na zahraničných vedeckých konferenciách Rok vykazovania 2000 článok