Výsledky vyhľadávania
Názov Study and comparison of resist characteristics for different negative tone electron beam resist Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Koleva Elena Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012006 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012006 
článok
Názov Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Mário 1993- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings. Vol. 2778 (2023), art. no. 030001 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 DOI 10.1063/5.0136258 článok
Názov Optimisation criteria for the process electron beam lithography of negative AR-N7520 resists Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 2443, no. 1 (2023), art. no. 012007 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2023 DOI 10.1088/1742-6596/2443/1/012007 článok
Názov Dependence of PMMA electron beam resist sidewall shape on exposure dose and resist thickness Autor Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Koleva Elena Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. AIP Conference Proceedings : Applied Physics of Condensed Matter (APCOM 2021). Vol. 2411 (2021), art. no. 040001 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2021 DOI 10.1063/5.0067068 článok
Názov Optimization of electron beam lithography processing of resist AR-N 7520 Autor Koleva Elena Spoluautori Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Koleva Lilyana Vutova Katia Markova Irina Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Konečníková Anna 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia VI International scientific conference INDUSTRY 4.0. Winter session : 8-11 December 2021 : Borovets, Bulgaria Zdroj.dok. Industry 4.0. Vol. 6, no. 5 (2021), p. 189-191 Kategória ADEB - Vedecké práce v ostatných zahraničných časopisoch neimpaktovaných Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok z podujatia Rok vykazovania 2022 článok
Názov PMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Koleva Elena Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia VEIT 2019. 21st International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : 23-27 September 2019 : Sozopol, Bulgaria Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 1492 (2020), art. no. 012015 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2020 DOI 10.1088/1742-6596/1492/1/012015 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence PMMA resist profile and proximity effect dependence on the electron-beam lithography process parameters.pdf Prístupný 748.1 KB 1 Vydavateľská verzia článok
Názov Study of proximity effects in HSQ e-beam resist on TiO2 thin film Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Nemec Pavol 1975- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. ASDAM 2020 : 13th International Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems. P. 65-70. - : IEEE, 2020 / Izsák Tibor ; Vanko Gabriel 1981 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2021 DOI 10.1109/ASDAM50306.2020.9393837 Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Study of proximity effects in HSQ e-beam resist on TiO2 thin film.pdf Neprístupný/archív 280 KB 0 Vydavateľská verzia článok
Názov Modeling approaches for electron beam lithography Autor Koleva Elena Spoluautori Vutova Katia Asparuhova Boriana Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Cvetkov K. Gerasimov V. Korp. EBT 2018. 13th International Conference on Electron Beam Technologies : Varna, Bulgaria : June 18-22, 2018 Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 1089 (2018), art. no. 012016 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2018 DOI 10.1088/1742-6596/1089/1/012016 URL URL link Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Modeling approaches for electron beam lithography.pdf Prístupný 809.7 KB 0 Vydavateľská verzia článok
Názov Experimental and theoretical study on chemically semi-amplified resist AR-P 6200 Autor Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Vutova Katia Andok Robert 1973- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Barák Vladislav 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Benčurová Anna 1966- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Ritomský Adrian 1956- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Tanaka Takeshi Korp. VEIT 2017. 20th International Summer School on Vacuum, Electron and Ion Technologies : Black Sea Resort Sozopol, Bulgaria : September 25-29, 2017 Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 992 (2018), art. no. 012057 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2018 DOI 10.1088/1742-6596/992/1/012057 URL URL link Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Experimental and theoretical study on chemically semi-amplified resist AR-P 6200.pdf Prístupný 1.2 MB 0 Vydavateľská verzia článok
Názov Simulation and experimental study on developed profiles in the positive polymer resist PMMA Autor Koleva Elena Spoluautori Vutova Katia Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Korp. EBT 2018. 13th International Conference on Electron Beam Technologies : Varna, Bulgaria : June 18-22, 2018 Zdroj.dok. Journal of Physics: Conference Series. Vol. 1089 (2018), art. no. 012015 Kategória ADMB - Vedecké práce v zahraničných neimpaktovaných časopisoch registrovaných vo WOS Core Collection alebo SCOPUS Kategória (od 2022) V3 - Vedecký výstup publikačnej činnosti z časopisu Typ výstupu článok Rok vykazovania 2018 DOI 10.1088/1742-6596/1089/1/012015 URL URL link Názov súboru Prístup Veľkosť Stiahnuté Typ Licence Simulation and experimental study on developed profiles in the positive polymer resist PMMA.pdf Prístupný 682 KB 0 Vydavateľská verzia článok