Výsledky vyhľadávania
Názov Directly sputtered stress-compensated carbon protective layer for silicon stencil masks Autor Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Spoluautori Hrkút Pavol 1948- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Držík Milan SAVSTAV - Ústav stavebníctva a architektúry SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Torres J. Wasson J. Wolfe J.C. Degen A. Rangelow I.W. Voigt D. (Dieter) Butschke J. Letzkus F. Springer R. Ehrmann A. Kaesmaier R. Kragler K. Mathuni J. Loeschner Hans Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3127-3131 Kategória ADC Rok vykazovania 1999 
článok