Výsledky vyhľadávania
Názov Polyimide application for fabrication of open stencil mask (OSM) with high resolution for new generation lithography : Technical report II-TR-SAS-LM-2006-01 Autor Matay Ladislav 1950- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Vyd.údaje Bratislava : Institute of Informatics Slovak Academy of Sciences , 2006 Kategória GAI - Správy (do roku 2014 aj výskumné štúdie) Rok vykazovania 2006 
kniha