Výsledky vyhľadávania
Názov Minimum ion bean exposure dose determination for chemically amplified resist from printed dot matrices Autor Bruenger W.H. Spoluautori Torkler M. Weiss M. Loeschner Hans Leung K. Lee Y. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Rangelow I.W. Stangl Guenther Fallmann W. Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 17, no. 6 (1999), p. 3119-3121 Kategória ADC Rok vykazovania 1999 
článok