Výsledky vyhľadávania
Názov Aqueous base developable epoxy resist for high sensitivity electron beam lithography Autor Argitis P. Spoluautori Glezos N. Vasilopoulou M. Raptis I. Hatzakis M. Everett J. Meneghini G. Palumbo A. Ardito M. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Akcia MNE'99. Micro and Nano Engineering International Conference : September 21-23, 1999 : Roma, Italy Zdroj.dok. Microelectronic Engineering. Vol. 53, No. 1-4 (2000), p. 453-456 Kategória ADC Rok vykazovania 2000 DOI 10.1016/S0167-9317(00)00354-3 
článok
Názov Aqueous base development and acid diffusion length optimization in negative epoxy resist for electron beam lithography Autor Glezos N. Spoluautori Argitis P. Velossiotis D. Raptis I. Hatzakis M. Hudek Peter 1953- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Kostič Ivan 1955- SAVINFO - Ústav informatiky SAV Zdroj.dok. Journal of Vacuum Science and Technology B. Vol. 18, no. 6 (2000), p. 3441-3434 Kategória ADCA - Vedecké práce v zahraničných karentovaných časopisoch impaktovaných Rok vykazovania 2000 DOI 10.1116/1.1324615 článok